高純抗氧化石墨坩堝的中心競爭力，源于基體純度與防護技術的深度交融：
基體純度：99.95%是底線，雜質操控到ppb級
選用經2800℃以上高溫石墨化的超高純石墨（固定碳≥99.95%），灰分總量≤50ppm，關鍵雜質（Fe、Si、Al）含量≤10ppm（相當于每噸石墨中僅含10mg雜質）。這種純度能從源頭削減高溫下的雜質揮發：1600℃真空環境中，總揮發物含量≤0.005%（一般99.5%石墨達0.1%），避免污染電子級硅料（要求金屬雜質≤1ppb）。 更關鍵的是，高密度基體（1.88-1.92g/cm3）的孔隙率≤2%，能削減涂層滲入時的應力會集，使涂層附著力提升至12MPa（一般坩堝僅8MPa），處理了高純石墨因脆性導致的涂層易掉落問題。